DonanımSamsung, High NA EUV Teknolojisini 2028'de DRAM Üretimine Taşıyor
Samsung, ASML ile iş birliği yaparak yeni nesil High NA EUV litografi teknolojisini 2028 yılında DRAM seri üretimine entegre etmeye hazırlanıyor. Bu hamle, daha küçük ve verimli bellek çiplerinin yolunu açacak.
2 hafta önce2 dk okumadonanimhaber